дэфект

т. 6, с. 363

Беларуская Энцыклапедыя (1996—2004, правапіс да 2008 г., часткова)

дэфект мас

т. 6, с. 363

Беларуская Энцыклапедыя (1996—2004, правапіс да 2008 г., часткова)

донар,

дэфект крышталічнай рашоткі паўправадніка.

т. 6, с. 183

Беларуская Энцыклапедыя (1996—2004, правапіс да 2008 г., часткова)

АКЦЭ́ПТАР,

дэфект крышталічнай рашоткі паўправадніка, здольны «захапіць» электроны і тым забяспечыць дзірачную электраправоднасць. Тыповыя акцэптары для германію (Ge) і крэмнію (Si) — атамы-дамешкі хім. элементаў III групы (B, Al, Ga, In). Гл. таксама Донары.

т. 1, с. 223

Беларуская Энцыклапедыя (1996—2004, правапіс да 2008 г., часткова)

А́СТАН

(Aston) Фрэнсіс Уільям (1.9.1877, г. Харбарн, Вялікабрытанія — 20.11.1945),

англійскі фізік. Чл. Лонданскага каралеўскага т-ва (1921), замежны чл.-кар. АН СССР (1924). Скончыў Бірмінгемскі ун-т (1898). Выкладаў у Бірмінгемскім і Кембрыджскім ун-тах. Навук. працы па атамнай і ядз. фізіцы, радыехіміі. Сканструяваў першы масспектрометр і з яго дапамогай адкрыў 213 устойлівых ізатопаў хім. элементаў, вызначыў іх адносную пашыранасць. У 1925 стварыў новы мас-спектрометр, на якім дакладна вызначыў масу і выявіў дэфект масаў шэрагу ізатопаў; упершыню пабудаваў крывую ўпаковачных каэфіцыентаў, што характарызуе энергію сувязі атамных ядраў. Нобелеўская прэмія 1922.

т. 2, с. 43

Беларуская Энцыклапедыя (1996—2004, правапіс да 2008 г., часткова)

ВАКА́НСІЯ ў фізіцы, дэфект крышталя, калі ў вузле крышталічнай рашоткі адсутнічае атам. Узнікае ў выніку цеплавых ваганняў атамаў, пры радыяцыйным апрамяненні, пластычнай дэфармацыі. Вакансіі абменьваюцца месцамі з суседнімі атамамі і хаатычна рухаюцца па крышталі. Рух вакансій — асн. прычына самадыфузіі (перамешвання атамаў у крышталях) і гетэрадыфузіі (узаемнай дыфузіі крышталёў, якія кантактуюць). Вакансіі могуць аб’ядноўвацца і ўтвараць складаныя дэфекты (ды- і трывакансіі, кластэры), а таксама спалучацца з дамешкамі і ўтвараць комплексы вакансій-дамешак. Наяўнасць вакансій істотна ўплывае на ўласцівасці крышталёў і фіз. працэсы (шчыльнасць, іонную праводнасць, унутр. трэнне, тэрмаапрацоўку, рэкрышталізацыю і інш.).

Літ.:

Вавилов В.С., Кив А.Е., Ниязова О.Р. Механизмы образования и миграции дефектов в полупроводниках. М., 1981.

т. 3, с. 463

Беларуская Энцыклапедыя (1996—2004, правапіс да 2008 г., часткова)